Tubo de Forno de Quartzo Personalizado de Alta Pureza de Grande Diâmetro para Semicondutores
Detalhes do produto
| Material: | 99,99% Quartzo Fundido | Conteúdo de íons metálicos: | Na/K/Fe < 1 ppm |
|---|---|---|---|
| Temperatura de trabalho: | 1100-1200°C, até 1350°C | Diâmetro externo: | φ40mm - φ500mm |
| Espessura da Parede: | 2mm - 15mm | Comprimento máximo: | 3 metros + |
| Estrutura: | Reto, aberto, flangeado | Aplicativo: | Forno de difusão de semicondutores |
| Destacar |
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Descrição do produto
1. Ultra-Alta Pureza – Núcleo de Processos Limpos
- Pureza de SiO₂ ≥ 99,99%, graus premium até 99,995%
- Conteúdo extremamente baixo de íons metálicos (Na/K/Fe etc. < 1ppm)Sem devitrificação, volatilização ou desprendimento de partículas em altas temperaturas
- A "primeira linha de defesa" para o rendimento de wafers de semicondutores – um tubo de forno contaminado pode arruinar um lote inteiro de wafers
- 2. Resistência Extrema ao Calor – Estável em Grandes Diâmetros
Temperatura de serviço a longo prazo 1100°C – 1200°C, curto prazo até 1350°C+
- Ponto de amolecimento aprox. 1700°C – tubos de grande diâmetro resistem à flacidez e deformação em altas temperaturas
- Compatível com processos de alta temperatura convencionais: difusão, oxidação, recozimento, LPCVD
- 3. Temperatura Uniforme – Campo Térmico Estável
Excelente condutividade térmica e transferência de calor radiante do material de quartzo
- Espessura de parede uniforme garante um campo de temperatura consistente dentro do forno
- Funciona com sistemas de controle de temperatura para controle preciso no nível de ±0,5°C
- Garante condições de processo idênticas para cada wafer
- 4. Expansão Térmica Ultra-Baixa – Resistência Superior ao Choque Térmico
Coeficiente de expansão térmica de apenas 5,5×10⁻⁷/°C (expansão próxima de zero)
- Excelente resistência ao choque térmico – sem rachaduras sob ciclos frequentes de aquecimento/resfriamento
- Dimensionalmente estável após ciclos térmicos repetidos – sem empenamento ou deformação a longo prazo
- 5. Forte Resistência à Corrosão – Tolera Atmosferas de Processo
Resiste a ácidos fortes (exceto HF) e à maioria dos gases de processo
- Sem reação com cloro, oxigênio ou gases dopantes (fosfina / diborano etc.) em altas temperaturas
- Resiste à erosão e acúmulo de depósitos – fácil de limpar, longa vida útil
- 6. Totalmente Transparente – Observação e Aquecimento Radiante
Paredes totalmente transparentes com alta transmitância UV-IR
- Suporta aquecimento radiante infravermelho para alta eficiência térmica
- Visibilidade em tempo real das condições do forno para fácil monitoramento do processo
- 7. Dimensões Precisas – Adapta-se a Vários Tipos de Forno
Controle rigoroso das tolerâncias de diâmetro do tubo, espessura da parede e comprimento
- Excelente retilinidade, circularidade e uniformidade da espessura da parede
- Compatível com modelos de forno horizontal e vertical convencionais
- Fabricação personalizada suportada de acordo com desenhos de equipamentos
- 8. Especificações Completas – Personalização Profunda
Diâmetro externo: φ40mm – φ500mm (maiores disponíveis mediante solicitação)
- Espessura da parede: opções de 2mm – 15mm
- Comprimento: personalizável até 3 metros ou mais
- Estruturas: tubo reto, aberto em ambas as extremidades, selado em uma extremidade, tubo flangeado
- Processamento: extremidades polidas à chama, polimento, chanframento, montagem de flange
- Acessórios: barcos de quartzo, tampões de tubo e componentes de suporte disponíveis
Product Highlights
1. Ultra-Alta Pureza – Núcleo de Processos Limpos Pureza de SiO₂ ≥ 99,99%, graus premium até 99,995% Conteúdo extremamente baixo de íons metálicos (Na/K/Fe etc. < 1ppm)Sem devitrificação, volatilização ou desprendimento de partículas em altas temperaturas A "primeira linha de defesa" para o ...
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