Tubo di forno al quarzo ad alta purezza a misura di grande diametro per semiconduttori
Dettagli del prodotto
| Materiale: | Quarzo fuso al 99,99%. | Contenuto di ioni metallici: | Na/K/Fe < 1 ppm |
|---|---|---|---|
| Temperatura di lavoro: | 1100-1200°C, fino a 1350°C | Diametro esterno: | φ40mm - φ500mm |
| Spessore della parete: | 2mm-15mm | Lunghezza massima: | 3 metri+ |
| Struttura: | Dritti, Aperti, Flangiati | Applicazione: | Forno di diffusione per semiconduttori |
| Evidenziare |
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Descrizione di prodotto
1. Ultra-alta purezza Core dei processi puliti
- Purezza di SiO2 ≥ 99,99%, gradi superiori fino a 99,995%
- Contenuto estremamente basso di ioni metallici (Na/K/Fe ecc. < 1 ppm)
- Nessuna devitrificazione, volatilizzazione o dispersione di particelle ad alte temperature
- La "prima linea di difesa" per il rendimento dei wafer a semiconduttore un tubo contaminato può rovinare un intero lotto di wafer
2- Resistenza al calore estremo - Stabile a grandi diametri
- Temperatura di funzionamento a lungo termine 1100°C ∼ 1200°C, a breve termine fino a 1350°C+
- Punto di ammorbidimento circa 1700°C ‡ tubi di grande diametro resistenti all'affacciamento e alla deformazione ad alte temperature
- Compatibile con i processi tradizionali ad alta temperatura: diffusione, ossidazione, ricottura, LPCVD
3. Temperatura uniforme Campo termico stabile
- Eccellente conduttività termica e trasferimento radiante di calore del materiale al quarzo
- Lo spessore uniforme della parete garantisce un campo di temperatura costante all'interno del forno
- Funziona con sistemi di controllo della temperatura per un controllo preciso a ± 0,5°C
- Garantisce condizioni di processo identiche per ogni wafer
4. Espansione termica ultra-bassa ️ Superiore resistenza agli urti termici
- Coefficiente di espansione termica di soli 5,5×10−7/°C (espansione quasi zero)
- Eccezionale resistenza agli urti termici ️ non crepa in frequenti cicli di riscaldamento/raffreddamento
- Stabilità dimensionale dopo ripetuti cicli termici
5- Forte resistenza alla corrosione - Tolera le atmosfere di processo
- Resistente agli acidi forti (esclusi gli HF) e alla maggior parte dei gas di processo
- Nessuna reazione con cloro, ossigeno o gas dopanti (fosfina / diborano ecc.) ad alte temperature
- Resistente all'erosione e all'accumulo di depositi
6- Completamente trasparente - Osservazione e riscaldamento radiante
- Pareti completamente trasparenti con elevata trasmissione UV-IR
- Supporta il riscaldamento a raggi infrarossi per un'elevata efficienza termica
- Visibilità in tempo reale delle condizioni del forno per un facile monitoraggio del processo
7. Dimensioni precise ️ Adatta a vari tipi di forno
- Controllo rigoroso delle tolleranze di diametro, spessore della parete e lunghezza del tubo
- Eccellente rettitudine, rotondità e uniformità dello spessore della parete
- Compatibile con i principali modelli orizzontali e verticali di forno
- Fabbricazione su misura supportata per disegni di attrezzature
8. Specificativi completi Deep Customization
- Diametro esterno: φ40 mm φ500 mm (più grande disponibile su richiesta)
- Spessore della parete: 2 mm ∼ 15 mm opzionali
- Lunghezza: personalizzabile fino a 3 metri o più
- Strutture: tubo retto, a due estremità aperte, un'estremità sigillata, tubo a flange
- Trasformazione: estremità lucidate a fiamma, lucidatura, carenatura, montaggio di flange
- Accessori: barche in quarzo, tappi per tubi e componenti di supporto disponibili
Product Highlights
1. Ultra-alta purezza Core dei processi puliti Purezza di SiO2 ≥ 99,99%, gradi superiori fino a 99,995% Contenuto estremamente basso di ioni metallici (Na/K/Fe ecc. < 1 ppm) Nessuna devitrificazione, volatilizzazione o dispersione di particelle ad alte temperature La "prima linea di difesa" per il ...
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