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Qualität Hochreines kundenspezifisches Quarzofenrohr mit großem Durchmesser für Halbleiter usine
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Hochreines kundenspezifisches Quarzofenrohr mit großem Durchmesser für Halbleiter

Markenbezeichnung: XT
Herkunftsort: China
Zertifizierung: CE
Mindestbestellmenge: 1

Produktdetails


Material: 99,99 % Quarzglas Metallionengehalt: Na/K/Fe &lt; 1 ppm
Arbeitstemperatur: 1100-1200°C, bis 1350°C Außendurchmesser: φ40mm - φ500mm
Wandstärke: 2mm - 15mm Maximale Länge: 3 Meter+
Struktur: Gerade, offenes Ende, geflanscht Anwendung: Halbleiter-Diffusionsofen
Hervorheben

Quarzrohr des hohen Reinheitsgrades

,

Halbleiter-Quarzofenrohr

,

kundenspezifische Quarz-Ofenrohr

Produkt-Beschreibung

1. Ultra-hohe Reinheit Kern der sauberen Prozesse

  • SiO2-Reinheit ≥ 99,99%, hochwertige Stoffe bis zu 99,995%
  • Sehr geringer Gehalt an Metallionen (Na/K/Fe usw. < 1 ppm)
  • Keine Entvitrierung, Verdunstung oder Partikelverlust bei hohen Temperaturen
  • Die "erste Verteidigungslinie" für Halbleiter-Wafer-Erzeugnisse: Ein verunreinigtes Ofenrohr kann eine ganze Wafer-Charge ruinieren

2. Extreme Hitzebeständigkeit

  • Langfristige Betriebstemperatur 1100°C ∼ 1200°C, kurzfristige bis zu 1350°C+
  • Erweichtungspunkt ca. 1700°C ‡ Röhren mit großem Durchmesser widerstehen bei hohen Temperaturen Absaugen und Verformungen
  • Kompatibel mit üblichen Hochtemperaturverfahren: Diffusion, Oxidation, Glühen, LPCVD

3. Einheitliche Temperatur

  • Ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit und Wärmeübertragung durch Strahlung von Quarzmaterial
  • Eine einheitliche Wandstärke sorgt für ein gleichbleibendes Temperaturfeld im Inneren des Ofen
  • Arbeitet mit Temperaturregelungssystemen für eine präzise Steuerung bei ±0,5 °C
  • Sicherstellung identischer Prozessbedingungen für jede Wafer

4. Ultra-niedrige thermische Ausdehnung ️ überlegene thermische Stoßbeständigkeit

  • Thermischer Expansionskoeffizient von nur 5,5×10−7/°C (Expansionsrate nahezu null)
  • Ausgezeichnete thermische Stoßbeständigkeit
  • Nach wiederholtem thermischen Zyklus maßstablich stabil

5. Starke Korrosionsbeständigkeit Toleriert Prozessatmosphären

  • Widerstandsfähig gegen starke Säuren (außer HF) und die meisten Prozessgase
  • Keine Reaktion mit Chlor, Sauerstoff oder Dopinggasen (Phosphin/Diboran usw.) bei hohen Temperaturen
  • Widerstandsfähig gegen Erosion und Ablagerungen leicht zu reinigen, lange Lebensdauer

6. Volltransparent Beobachtung & Strahlungsheizung

  • Volltransparente Wände mit hoher UV-IR-Übertragbarkeit
  • Unterstützt Infrarot-Bestrahlung Heizung für hohe thermische Effizienz
  • Echtzeitsichtbarkeit der Ofenbedingungen für eine einfache Prozessüberwachung

7. Präzise Abmessungen Fitt für verschiedene Ofenarten

  • Strenge Kontrolle des Rohrdurchmessers, der Wandstärke und der Längentoleranzen
  • Ausgezeichnete Geradheit, Rundheit und Einheitlichkeit der Wandstärke
  • Kompatibel mit herkömmlichen horizontalen und vertikalen Ofenmodellen
  • Produktion nach Maßgabe der Zeichnungen der Ausrüstung

8. Vollständige Spezifikationen ️ Tiefe Anpassung

  • Außendurchmesser: φ40 mm φ500 mm (größerer auf Anfrage erhältlich)
  • Wandstärke: 2 mm 15 mm Optionen
  • Längen: bis zu 3 Meter oder mehr
  • Strukturen: gerade Röhre, beide Enden offen, ein Ende versiegelt, Flanschröhre
  • Verarbeitung: Flammenpolierte Enden, Polieren, Schrägstellen, Flanzenbefestigen
  • Zubehör: Quarzboote, Rohrstecker und Stützkomponenten erhältlich

Product Highlights

1. Ultra-hohe Reinheit Kern der sauberen Prozesse SiO2-Reinheit ≥ 99,99%, hochwertige Stoffe bis zu 99,995% Sehr geringer Gehalt an Metallionen (Na/K/Fe usw. < 1 ppm) Keine Entvitrierung, Verdunstung oder Partikelverlust bei hohen Temperaturen Die "erste Verteidigungslinie" für Halbleiter-Wafer...

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