เรือควอตซ์บริสุทธิ์สูง ทนอุณหภูมิสูง ปรับแต่งได้

1ความบริสุทธิ์สูงสุด ไม่ติดต่อโลหะ

• SiO2 ความบริสุทธิ์ ≥ 99.99%, คุณภาพสูงสุดถึง 99.995%
• เนื้อหาไอออนโลหะที่ต่ํามาก (Na/K/Fe เป็นต้น < 1ppm)
• ไม่มีฝนตก, การระเหยหรือการหลั่งของอนุภาคที่อุณหภูมิสูง
• เส้นทางแรกของการป้องกันสําหรับผลิตของวอฟเฟอร์ การปนเปื้อนโลหะโดยตรงทําให้อุปกรณ์ผิดปกติ

2. ความทนความร้อนสูง ✅ ความเข้ากันได้ในกระบวนการทั่วไป

• อุณหภูมิการทํางานต่อเนื่อง 1200°C มากกว่าในช่วงเวลาสั้น
• จุดอ่อนโยนประมาณ 1700 °C ✅ ไม่มีการอ่อนโยนหรือปรับปรุงที่อุณหภูมิสูง
• รองรับกับกระบวนการอุณหภูมิสูงทั่วไป: การกระจายกระจาย, การออกซิเดชั่น, การผสมผสาน, LPCVD

3. สล็อตที่แปรรูปด้วยความแม่นยํา

• ความอนุญาตความยาวของช่อง ± 0.1mm กับความอนุญาตความกว้างช่องอย่างเข้มงวด
• ความขนานสล็อต < 0.1mm
• มุมการวางแผ่น 88°±0.5° (เกือบตั้งค่าสําหรับการเผชิญกับก๊าซและความร้อนอย่างเท่าเทียม)
• สล็อตที่แม่นยําทําให้สภาพความร้อนและก๊าซเหมือนกันสําหรับทุกแผ่น

4. การขยายความร้อนที่ต่ําสุด resistance ความทนต่อการกระแทกทางความร้อนที่สูงกว่า

• คณิตการขยายความร้อนเพียง 5.5 × 10−7/ °C (ขยายความเร็วใกล้ศูนย์)
• ความทนทานต่อการกระแทกทางความร้อนที่โดดเด่น ✓ ไม่แตกในช่วงรอบการอบอุ่น/เย็นบ่อย
• มิติที่มั่นคงหลังจากการหมุนเวียนทางความร้อนซ้ํา ๆ

5ความทนทานต่อการกัดกร่อนที่แข็งแกร่ง

• ทนทานกรดแข็ง (ยกเว้น HF) และอากาศส่วนใหญ่ของกระบวนการ
• ไม่มีปฏิกิริยากับเคลอรีน, ไอน้ําออกซิเจน, ก๊าซ dopant ฯลฯ ในอุณหภูมิสูง
• ทนต่อการบดและการสะสมฝาก ✅อายุการใช้งานยาว

6. กันไฟฟ้าสูง ปลอดภัยและน่าเชื่อถือ

• ความต้านทานสูง (ประมาณ 7×107 Ω·cm)
• รักษาความสามารถในการกันความร้อนที่ดีในอุณหภูมิสูง
• กําจัดการแทรกแซงการรั่วไหลเพื่อความปลอดภัยของกระบวนการ

7. โครงสร้างที่หลากหลาย

• เรือแนวราบ (สําหรับเตาอบแนวราบ) และเรือแนวตั้ง (สําหรับเตาอบแนวตั้ง)
• เรือที่มีแผ่นเดียว / หลายแผ่น (ตัวเลือกสล็อต 25 / 50 / 100)
• รองรับกับโวฟเวอร์ขนาด 4", 6", 8", 12" (100/150/200/300มม.)
• จํานวนสล็อต, สูงและโปรไฟล์ สามารถปรับแต่งได้อย่างลึกซึ้งตามการวาด

8. การผลิตอนุภาคต่ํา การประกันกระบวนการที่สะอาด

• ผิวที่ได้รับการบําบัดละเอียด
• ลดการสร้างอนุภาคและเศษเหลือได้อย่างมีประสิทธิภาพ
• เหมาะสําหรับสภาพแวดล้อมกระบวนการห้องสะอาด