Kuarsa Berkualitas Tinggi Kapal tahan suhu tinggi kustomisasi

1. Ultra-High Purity Zero Metal Contamination

• SiO2 kemurnian ≥ 99,99%, kelas premium hingga 99,995%
• Kandungan ion logam yang sangat rendah (Na/K/Fe dll < 1 ppm)
• Tidak ada curah hujan, pembuahan atau pelepasan partikel pada suhu tinggi
• Jalur pertahanan pertama untuk hasil wafer kontaminasi logam langsung menyebabkan kegagalan perangkat

2. Ketahanan panas yang ekstrim

• Suhu operasi terus-menerus 1200°C, lebih tinggi untuk periode pendek
• Titik pelembutan sekitar 1700°C
• Kompatibel dengan proses suhu tinggi utama: difusi, oksidasi, penggilingan, LPCVD

3. slot mesin presisi ️ akurat, dapat diandalkan beban wafer

• Toleransi jarak slot ± 0,1 mm dengan toleransi lebar slot yang ketat
• Parallelisme slot < 0,1 mm
• Sudut penempatan wafer 88°±0,5° (hampir vertikal untuk paparan gas dan panas yang seragam)
• Slot yang tepat memastikan kondisi termal dan gas yang sama untuk setiap wafer

4. Ekspansi termal yang sangat rendah

• Koefisien ekspansi termal hanya 5,5×10−7/°C (ekspansi hampir nol)
• Ketahanan kejut termal yang luar biasa tidak retak dalam siklus pemanasan/pendinginan yang sering
• Dimensional stabil setelah siklus termal berulang tidak ada penyimpangan atau deformasi

5. Ketahanan korosi yang kuat Inersia kimia

• Tahan terhadap asam kuat (kecuali HF) dan sebagian besar atmosfer proses
• Tidak ada reaksi dengan klorin, oksigen, gas dopan dll pada suhu tinggi
• Tahan terhadap erosi dan penumpukan endapan

6. Isolasi Listrik Tinggi ️ Aman & Dapat Diandalkan

• Resistivitas tinggi (sekitar 7×107 Ω·cm)
• Menjaga kinerja isolasi yang sangat baik pada suhu tinggi
• Menghilangkan gangguan kebocoran untuk keamanan proses

7. Struktur serbaguna Kompatibel dengan berbagai jenis tungku

• Kapal horisontal (untuk tungku horisontal) dan kapal vertikal (untuk tungku vertikal)
• Kapal dengan single-wafer / multi-wafer (25/50/100 pilihan slot)
• Kompatibel dengan wafer 4", 6", 8", 12" (100/150/200/300mm)
• Jumlah slot, pitch dan profil sangat disesuaikan per gambar

8. Generasi Partikel Rendah

• Permukaan yang diolah halus ️ halus dan bebas kerutan
• Secara efektif mengurangi generasi partikel dan residu
• Cocok untuk lingkungan proses cleanroom